穩定 高速

• 同時對應8"&12"晶圓的傳送
• 內部微環境的潔淨度控制，採以CFD流體分析驗證，並確保內外壓差之設計，使Wafer傳送過程不受汙染
• 最佳化的Robot運動軌跡，以最短路徑加上曲線補間達到快速穩定的傳送
• 超高速的晶圓定位器，利用動態影像演算精準快速定位出晶圓中心與方向
• 完整的紀錄數據，可滿足工業4.0下之預測性維護